Symulecje, projektowanie i wykonanie apodyzowanej maski fazowej przy użciu technologii szkieł HEBS [rozprawa doktorska] / Osuch Tomasz.
Osuch, Tomasz [Autor].
Instytut Łączności [Wydawca ].
Wydawca: Warszawa : IŁ, 2010Opis: 122 s.; 30 cm.| Typ dokumentu | Obecna lokalizacja | Sygnatura | Status | Termin zwrotu |
|---|---|---|---|---|
Książki
|
Magazyn | S-10360 (Przeglądaj półkę) | Dostępny |
Książki
Brak komentarzy dla tego tytułu.